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乾式光罩清潔機
Vega ®雷射光波光罩清洗系統以不同於以往濕式化學表面微粒清除製程中缺點的乾式光罩清潔技術,對光罩整體良率的改善提供新的解決方案。這種創新的系統採用了高速衝擊波撞出顆粒表面的光罩表面。 
 
由於 VEGA ®系統不使用化學物,因此光罩表面不會有因為濕式化學清洗技術帶來的表面刮痕與蝕刻痕跡,也不會有水氣附漬、化學反應與表面化學改質作用等效應。

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