PE75 Plasma Etch Model
概述
PE-75是美國The Plasma Etch 公司最大的入門級電漿系統，並提供目前競爭公司的產品所沒有許多功能。該系統設有一個12"直徑 X 11"深圓形鋁真空室搭配有直接式射頻電極。在所有的電漿蝕刻設計系統中，電容平行板設計是最有效的。PE-75有PLC微處理器控制系統及有字母數字顯示的小鍵盤使用者界面。可以儲存一個單一自動程序的製程配方。PE-75緊湊的設計和實惠的價格，是小型量產、研發設施以及學術研究的完美電漿設備。
優點
- 直接接觸射頻電容平行板電極用於產生均勻的電漿。
- 搭配PLC控制器 自動化的電漿清洗機。
系統特點
- 持久耐用的鋁製真空室
- 内部尺寸約12"直徑 X 11"深
- 單一9"寬 X 10"長 水平直接式接觸式電極
- 5.5"(最低)真空室淨高
- 400瓦，50KHz連續可變射射頻電源
- 2個浮子流量计，2個氣體控制器0-25cc/min
- 精密針閥熱電偶真空計0-1Torr
- PLC微電腦控制系统
- 控制台外形尺寸：18"寬 X 19" 長 X 24"高
- 5 CFM 2階段直接傳動氧真空油泵
- 可儲存單一製程序列
應用
- 電漿殺菌
- 表面處理