PE100 Plasma Etch Model
概述
PE-100是一個完整的系統搭配穩健和可靠的真空泵設計，且價格實惠，足以讓初創公司，醫學實驗室和研發單位有機會體驗到Plasma Etch技術。工業粉末塗層框架設計特點，以保護您的機台產品不會被污染。用電漿處理進行表面處理有高均勻性，並減少或省略不用那些昂貴的化學品及廢液。一個簡易直觀的操作界面搭配觸控螢幕來進行安全、再現性高的電漿處理過程。
優點
- 客制化電極配置，RIE(反應離子蝕刻)和溫度控制。
- 全鋁製腔體
系統特點
- 12" X 12" X 12" 鋁焊接真空室
- 三層面積 9" X 9" 間隔3" 的電極及框架
- 300瓦@100KHz 射頻產生器
- 0-50cc流量控制器
- Pirini真空計。
- 微處理器控制系統搭配觸控螢幕，可儲存製程程序
- 8 CFM氧真空泵
- 8 CFM氧真空泵除霧器
選購配件
- 300瓦@13.56 MHz 射頻產生器
- 靜電屏敝
- 製程溫度控制
- 客制化電極配置
- RIE(反應離子蝕刻)電極
- 真空泵氮或CDA清潔
應用
- 電漿殺菌
- 表面處理