品名

螢光X射線鍍層厚度測量儀

型號

FT9500 series

概要

  先進的微聚焦技術將X-ray能量聚焦在小於直徑0.1mm的範圍內。因此FT9500可以應用於微細的點及極薄的鍍層量測,如導線架、端子連接器及軟性電路板上之微細及極薄的鍍層領域,它們無法使用普通的機型來量測,因為其無法於量測的樣品中獲得充足的螢光x-ray能量。

特點

 

1.      極薄鍍層及多鍍層量測:

Poly capillaryX-ray聚焦系統,把X-ray光束聚焦在直徑小於0.1mm範圍裡, 強度可超過普通準直器機型的50倍,因此FT9500系列可高準確量測奈米等級的金的厚度。除此之外,它還能量測多鍍層的每一鍍層如Au/Pd/Ni/Cu and Au/Ni/Ti/Si.

2. 有害物質分析( RoHS and ELV):
  FT9500
配備有高解析度及不需液態氮散熱的半導體檢測器,提供了有害物質分析的最佳解決方法。例如: 分析無鉛焊錫及無電解鎳中的鉛含量。

3.      細小異物分析:
高強度的X-ray光束加上高檢出率的偵測器可以分析細小異物,以光譜比對功能執行異物的定性分析。

4.      搭載能四段切換的可變倍率光學系統,可對微小區域進行觀察。光學系統上的焦點切換功能,能夠對有高度的樣品進行底部厚度測定。

5.      加強照明功能,容易對以前觀察困難的樣品進行觀察。

6.      使用伺服馬達做精確的平台驅動。

7.      運用雷射聚焦功能做樣品表面高度的位置調整。

 
規格書

機型

FT9500

量測元素範圍

原子序 22() to 83 ()

X光管

小型氣冷式X光管(鉬靶)

管電壓 : 50KV

管電流 : 1mA

偵測器

Vortex半導體偵測器 (不需使用液態氮冷卻)

X光聚焦系統

X光聚焦範圍

Poly Capillary

小於0.1mm直徑

影像觀察

CCD 攝像頭及四段切換的可變倍率光學系統

樣品對焦裝置

雷射對焦

濾波器

第一段濾波器(for RoHS)

工作平台

移動範圍

240(W) * 170(D)mm

220(X) * 150(Y) * 150(Z)mm

控制裝置

商用桌上型電腦, 19 LCD螢幕

軟體應用

薄膜FP (最多 5, 每層10種不同元素)

薄膜檢量線

塊體FP (金屬成分分析)

資料處理

Microsoft Excel, Word

安全保護裝置

防撞擊保護機械裝置

自我診斷功能

量測中自動上鎖裝置

安全斷電裝置(量測中開啟上蓋, 自動關閉X-ray電源)

選配

Mapping軟體
塊體檢量線(鍍液濃度分析)

能譜matching軟體

濾波器: 量測超薄金專用


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